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        無油式真空泵

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        真空科學與技術的一些前沿課題

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        真空科學與技術的一些前沿課題

        發布日期:2020-10-31 14:18 來源:http://www.ymsevimse.com 點擊:

        真空產品生產廠家、真空行業的科技工作者每時每刻都應該掌握自己工作領域內Z近、Z新的學術動態,研究自己工作范圍內的前沿課題,以便給自己定位,確定自己的對策,找出自己前進的方向,積極參加市場競爭,不斷改革創新,才能立于不敗之地。尤其是我國加入WTO之后,真空科技工作者的目光應該更遠大,獲取科技信息就顯得更為重要,它是企業存在的保障,是科技工作者的生命線。

         

        1、真空泵

         

        真空泵的種類很多,可按下表進行分類。

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        真空泵的前沿課題主要有:①號稱21世紀綠色真空泵的各種無油泵(干泵)的研制;②噴射泵、擴散泵的理論研究與設計計算;③探索創新泵的工作原理,研制新型泵。

         

        2、真空計量

         

          真空計量目前研究的主要內容有:

         

         ?、僬婵斩?全壓力)測量與校準;

         ?、谡婵召|譜分析,分壓力的測量與校準;

         ?、蹥怏w微流量(漏率)的測量與校準;

         ?、懿牧戏艢饴实臏y量;

         ?、菡婵毡贸樗贉y量。

         

        真空計量研究的前沿課題可歸納為:

         

         ?、傺芯糠瞧胶鈶B分子流理論,非平衡態分子流校準系統,超音速分子流校準系統,為空間真空測量和校準解決難題;

         ?、谘芯课⑿÷饴蕼y量、校準技術;

         ?、垩芯拷鉀Q極高真空的測量、校準問題,尋找新的測量理論;

         ?、苎芯坎牧衔⒘糠艢饴蕼y量與放氣成分分析技術

         ?、菅芯拷鉀Q擴散泵返油率的測量問題,尋找新的測量方法。

         

        3、真空鍍膜

         

          真空鍍膜是真空科學技術領域中Z活躍的一門應用技術,它涉及到鍍膜設備、工藝、膜材、靶材等諸多方面,薄膜的種類很多,這里只能簡單論述其中的一部分。

         

        3.1、硬質薄膜

         

          自然界中金剛石Z硬,立方氮化硼第二,碳化硼第三。

         

         ?、俳饎偸?CVD法生產): 熱絲CVD法金剛石膜沉積速率可達 2.5μm/h,HV40~50GPa;

         ?、贐4C 碳化硼:用磁控濺射法生產,高溫熱穩定性好,1100℃以上,它是Z硬材料,HV50.4gPa;

         ?、蹚秃夏ぃ篢iN-第1代;TiCN、TiAlN--第二代; 第三代是多組元復合膜和多層膜體系;TiN/TiCN、TiN/NbN、TiN/TiAlN、TiN/CrN、TaN/NbN(氮化鉭/氮化鈮),HV55.6GPa,發展成多層納米梯度膜- TiAl、TiAl1、TiAl2、ZrN(氮化鋯)。發展方向:提高膜的韌性、耐磨性、耐熱性、耐蝕性。

         

        3.2、金剛石涂層刀具

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        研究方向:①提高金剛石涂層與基體之間附著力,設計中間過渡層,開發多涂層刀具; ②增大沉積面積,提高生長速率; ③研究PVD法金剛石涂層理論和工藝。

         

        3.3、光、電、 磁各種功能膜

         

          這些功能膜種類繁多,性能各異,這里僅舉部分例證。

         

         ?、侔l光薄膜:Y2O3:Eu(尿素D溶液法)Eu(射頻濺射法);

         ?、诶涔饽? 可見光區高反射,紅外光區高透射,實現冷光照射,達到保護被照物目的;

         ?、塾袡C光電薄膜:金屬酞菁膜:CuPc-PbPc;CuPc/ZnS; 酞菁氧鈦具有極高光敏系數;

         ?、芄怆姽δ軓秃夏? Ag-Au-SiO2,Ag-BaO,Ag-SiO2,Ag-MgF2,其中Ag-MgF2納米金屬陶瓷薄膜具有光吸收特性,Ag-BaO具有光電發射特性;

         ?、萃该鲗щ娔ぃ篒TO(In2O3:Sn),ZAO(ZnO:Al),IMO(In2O3:Mo);

         ?、薰庵伦兩∧ぃ?8烷基取代螺吡喃薄膜(SP-18),在紫外光照下變色,在可見光照下恢復無色,可用于光信息存儲、光控開關等;

         ?、叽殴庥涗洷∧ぃ篜bFeCo(鉛鐵鈷);

         ?、喑笠幠<呻娐?VLSI): 在Si基片上濺射Cu或Al,實現多層布線;

         ?、岚雽w膜:SiC、ZnO;

         ?、馄渌怆姶诺忍匦怨δ苣ぃ?/span>

         

          LiF、CaF2用于平面型場發射顯示器;

          Fe/Cr多層膜有巨磁電阻(GMR) ;

          Fe=SiO2膜具有隧道磁電阻效應(TMR);

          TiO2膜具有優良的介電、壓電、氣敏和光催化功能;

          Cu-SCN-Al(有機絡和物)有極性記憶效應;

          三乙胺- 四氰-P-醌二甲烷(TEA(TCNQ)2)單晶是一種可以用來進行高密度信息存儲的有機復合材料;

          YBCO屬高溫超導(HTS)膜。

         

        3.4、裝飾膜

         

          研究方向:①對薄膜材料的研究正向復合化、 多種類、高性能、新工藝方向發展②研究復合膜的設計、性能檢測、制備方法; ③研究薄膜應力( 牢固度) ;④研究大面積靶材制作技術,提高靶材利用率。

         

        3.5、前沿課題

         

         ?、侔l現具有新特性的新的膜層材料;

         

         ?、谠O計具有特殊功能的新的膜系(復合膜);

         

         ?、郯l展高科技產業,例如集成電路產業,信息存儲產業,平面顯示器產業,包括液晶顯示器(LCD),等離子體顯示器(PDP), 場致發射顯示器(EL);

         

         ?、苌钊肽咏Y構與特性關系等理論研究。



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